本报告聚焦半导体制造核心的计算光刻技术，阐述光刻仿真、掩模优化、成像畸变校正等关键原理。结合人工智能与智能优化算法，剖析其在先进制程光刻建模、分辨率增强、工艺良率提升中的应用路径，梳理技术瓶颈与发展趋势，为前沿超导电子器件研究与工程应用提供参考借鉴。